Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut, HISEE-E2, BA II
Produktions- und Administrationsgebäude HISEE - E2, BA II
BAUHERR
Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut
GENERALÜBERNEHMER
Kajima GmbH, Frankfurt
Projektsteuerung
PLANUNGSAUFTRAG
Koppenhöfer + Partner GmbH, Stuttgart
Architektenleistungen nach HOAI § 15, Phase 1-9
Schmidt Reuter Partner GmbH, Stuttgart
Technische Gebäudeausrüstung
PLANUNGSPARTNER
IHIB, Darmstadt
Tragwerksplanung
PROJEKTBESCHREIBUNG
Planungszeit
01/1996 - 09/1996
Bauzeit
05/1996 - 02/1997
GEBÄUDENUTZUNG
- Fabrikationsgebäude mit Herstellungsräumen unter Reinraumbedingungen Klasse 1
- Technikflächen für Sondermedien und Gebäudetechnik
TECHNISCHE ANLAGEN
- Filterdecke
- Laminar-Flow-System
- Technische Anlagen im Dachaufbau
- Sondermedienführung im UG
Bruttogeschossfläche
10.800 m²