Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut, HISEE-E2
Neubau Halbleiterfabrikation/Waferherstellung HISEE - E2
BAUHERR
Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut
PLANUNGSAUFTRAG
Schmidt Reuter Partner GmbH, Stuttgart
Generalplanung, Technische Gebäudeausrüstung
Koppenhöfer + Partner GmbH, Stuttgart
Gebäudekonzept, Architektenleistungen nach HOAI § 15, Phase 1-9, Freianlagen (Planungsbeteiligung)
PLANUNGSPARTNER
Grebner, Beratende Ingenieure GmbH, Mainz
Tragwerksplanung
Luz Landschaftsarchitektur, Stuttgart
Freianlagen
PROJEKTBESCHREIBUNG
Planungszeit
03/1990 - 06/1992
Bauzeit
06/1990 - 06/1992
GEBÄUDENUTZUNG
- Fabrikationsgebäude mit Herstellungsräumen unter Reinraumbedingungen Klasse 1
- Administrationsgebäude mit Umkleideräumen und Kantine
TECHNISCHE ANLAGEN
- Filterdecke, begehbarer Doppelboden
- Laminar-Flow-System
- Anlagen im Dachaufbau
- Medienführung im UG
- Betriebsgebäude für die Ver- und Entsorgung
Bruttogeschossfläche
37.000 m²
Bruttorauminhalt
250.000 m³