Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut, HISEE-E2

Neubau Halbleiterfabrikation/Waferherstellung HISEE - E2

BAUHERR

Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut

PLANUNGSAUFTRAG

Schmidt Reuter Partner GmbH, Stuttgart
Generalplanung, Technische Gebäudeausrüstung

Koppenhöfer + Partner GmbH, Stuttgart
Gebäudekonzept, Architektenleistungen nach HOAI § 15, Phase 1-9, Freianlagen (Planungsbeteiligung)

PLANUNGSPARTNER

Grebner, Beratende Ingenieure GmbH, Mainz
Tragwerksplanung

Luz Landschaftsarchitektur, Stuttgart
Freianlagen

PROJEKTBESCHREIBUNG
Planungszeit

03/1990 - 06/1992

Bauzeit

06/1990 - 06/1992

GEBÄUDENUTZUNG
  • Fabrikationsgebäude mit Herstellungsräumen unter Reinraumbedingungen Klasse 1
  • Administrationsgebäude mit Umkleideräumen und Kantine
TECHNISCHE ANLAGEN
  • Filterdecke, begehbarer Doppelboden
  • Laminar-Flow-System
  • Anlagen im Dachaufbau
  • Medienführung im UG
  • Betriebsgebäude für die Ver- und Entsorgung
Bruttogeschossfläche

37.000 m²

Bruttorauminhalt

250.000 m³