Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut, HISEE-E2, BA II

Produktions- und Administrationsgebäude HISEE - E2, BA II

BAUHERR

Hitachi Semiconductor (Europe) GmbH, Landshut

GENERALÜBERNEHMER

Kajima GmbH, Frankfurt
Projektsteuerung

PLANUNGSAUFTRAG

Koppenhöfer + Partner GmbH, Stuttgart
Architektenleistungen nach HOAI § 15, Phase 1-9

Schmidt Reuter Partner GmbH, Stuttgart
Technische Gebäudeausrüstung

PLANUNGSPARTNER

IHIB, Darmstadt
Tragwerksplanung

PROJEKTBESCHREIBUNG
Planungszeit

01/1996 - 09/1996

Bauzeit

05/1996 - 02/1997

GEBÄUDENUTZUNG
  • Fabrikationsgebäude mit Herstellungsräumen unter Reinraumbedingungen Klasse 1
  • Technikflächen für Sondermedien und Gebäudetechnik
TECHNISCHE ANLAGEN
  • Filterdecke
  • Laminar-Flow-System
  • Technische Anlagen im Dachaufbau
  • Sondermedienführung im UG
Bruttogeschossfläche

10.800 m²